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直讀光(guāng)譜儀内部氩氣的(de)重要作用(yòng)
我們将在下(xià)面爲大(dà)家仔細說一下(xià)關于直讀光(guāng)譜儀内部氩氣的(de)重要作用(yòng)。
氩氣的(de)流量和(hé)壓力決定Ar氣對(duì)放電表面的(de)沖擊力，必須适當。若沖擊能力低，即不足以将試樣激發過程中産生的(de)氧和(hé)它形成氧化(huà)物(wù)沖掉，則這(zhè)些氧化(huà)物(wù)必定凝集在樣品表面及電極上，抑制試樣的(de)繼續蒸發，這(zhè)種現象靠中心區(qū)愈嚴重。隻有當氩氣的(de)沖擊能力足以洗除氧和(hé)電極上的(de)凝集物(wù)，同時(shí)又不至于使火花産生跳動時(shí)，才是最佳狀态。
氩氣不純，含有過量氧含量，凝集在電極上的(de)氧化(huà)物(wù)多(duō)，譜線強度降低，使氩火花放電不穩定。水(shuǐ)蒸汽和(hé)C02一樣，在高(gāo)溫下(xià)可(kě)能分(fēn)解出氧氣。因此水(shuǐ)蒸汽和(hé)C02均不允許含量過大(dà)。碳過多(duō)，對(duì)含碳量較少的(de)試樣的(de)分(fēn)析精度有直接影(yǐng)響。
爲了(le)提高(gāo)氩火花的(de)穩定性，必須對(duì)氩氣進行淨化(huà)處理(lǐ)。可(kě)以在供氩管道上加上一個(gè)盛分(fēn)子篩的(de)容器，用(yòng)以吸附氩氣中的(de)水(shuǐ)分(fēn)及複雜(zá)氣體，使氩氣幹燥和(hé)淨化(huà)。分(fēn)子篩吸附的(de)物(wù)質可(kě)以用(yòng)加熱(rè)的(de)辦法去除。去除吸附物(wù)後的(de)分(fēn)子篩又恢複了(le)吸附能力，還(hái)可(kě)以重複循環使用(yòng)。也(yě)可(kě)以用(yòng)條狀的(de)氫氧化(huà)鉀去掉氩氣中的(de)二氧化(huà)碳，也(yě)可(kě)以用(yòng)鎂爐（在管道容器中裝入金屬鎂屑），爐子溫度400-600C，氩氣通(tōng)過鎂爐後可(kě)以除去氧。經過淨化(huà)裝置處理(lǐ)後的(de)氩氣，就能滿足分(fēn)析要求了(le)。
氩氣減壓閥
爲了(le)避免空氣對(duì)氩氣管道的(de)污染而降低氩氣純度，因此，平時(shí)不做(zuò)分(fēn)析時(shí)，常規光(guāng)譜儀氩氣管道中也(yě)保持0.5-1升/分(fēn)鐘(zhōng)的(de)氩氣流量，稱之謂靜态氩沖洗火花室。因此操作者要注意找一塊樣品始終蓋住極闆孔，進行分(fēn)析需換磨樣品時(shí)，要求操作迅速，以免盡量減少空氣進入火花室。
氩氣系統由氩氣控制電路、電磁閥，氣流控制閥等組成，氣流量的(de)分(fēn)配根據激發過程的(de)需要，由程序設定，各閥門己由制造廠設定，用(yòng)戶不需要單獨調整，隻需提供0.3MPa的(de)氣源即可(kě)。
氩氣進入火花室有一條通(tōng)道，從聚光(guāng)鏡前面下(xià)方進入火花室，這(zhè)樣就比較徹底地沖淨光(guāng)線通(tōng)過處空間的(de)空氣，又可(kě)以阻止激發時(shí)産生的(de)粉塵對(duì)聚光(guāng)鏡的(de)污染。
氩氣流量分(fēn)配爲：①惰性流量（待機狀态）爲0.5升/分(fēn)，此時(shí)電磁閥門關閉，氩氣經過固定氣流控制閥保持其恒定值。OBLF公司的(de)光(guāng)譜儀在常規分(fēn)析狀态下(xià)，靜态氩流量爲零。②大(dà)流量沖洗，目的(de)是沖擊更換樣品時(shí)帶進的(de)空氣。此時(shí)電磁閥全開，保持流量爲5-6升/分(fēn)。③激發狀态。中間路電磁閥關閉，另一路與常流量合成3-5升/分(fēn)流量，維持正常激發。當激發停止，兩閥關閉，又進入待機狀态。
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